钕铁硼预镀镍多采用瓦特型镀镍工艺，适量使用半光亮镍添加剂，使用添加剂的目的并非追求亮度，而是可使用大的阴极电流密度，利于镀层的快速沉积。瓦特型镀镍同样属于简单盐镀液类型，因需要在钕铁硼基体上直接施镀，对如镀液、滚筒及操作等要求与钕铁硼镀锌大致相同。面层镍多采用标准的光亮镀镍工艺，目前的光亮镀镍工艺已足够成熟，不再多述。极少数厂家使用氨基磺酸盐镀镍工艺。一般，钕铁硼件预镀镍层平均厚度要求不低于4～5txm，以保证零件低电流密度区镀层完全覆盖，防止后续镀铜液对基体的腐蚀。面镍层6为8—10m，以保证镀层的抗腐蚀能力。这样，镍层总6达到12～l5m。镍属于铁磁性金属，其镀层不仅不产生磁性输出，还会屏蔽钕铁硼磁体的磁性输出，镀层越厚屏蔽作用就越大。以目前的镍／铜／镍镀层组合体系，对于0．5g以下的小尺寸磁体，可使其磁性能衰减10％～15％。如何减少电镀镍层的厚度又不影响后续镀铜和镀层防腐性能，是解决或改善问题的关键。


 

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